Máquina de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón de CC diseñada para recubrir películas de oro conductoras

:
VTC-16-D
MOQ :
1
Compliance:
CE Certified
Warranty:
1 year
Delivery Time:
5 days
Correo electrónico :
Louis@lithmachine.com

Máquina de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón de CC diseñada para recubrir películas de oro conductoras

vtc-16-d es un escritorio magnetrón recubrimiento por pulverización catódica con un cabezal objetivo de 2 ", soporte de muestra ajustable en altura. Especialmente adecuado para recubrir una película de oro conductiva para muestras de sem. ) objetivo está incluido.

presupuesto

característica	especialmente diseñado para el recubrimiento de película de oro conductiva para sem muestra recubrimiento de pulverización catódica de plasma compacto diseñado para recubrimientos metálicos, como oro, platino y plata uno Objetivo de 2 "de oro (4n) está incluido
voltaje de entrada	220 vac 50 / 60hz, 200w & lt; 1000 w (incluida la potencia de la bomba de vacío) La alimentación de 110vac está disponible mediante el uso de un Transformador de 1000 w (fusible de 15 a) . el transformador se vende por separado
tensión de salida	500 vdc
chisporrotear corriente	0 - 50 ma (máx.) Corriente de pulverización ajustable medidor de corriente digital (ma) protección contra la sobretensión
tiempo de chisporroteo	1 -120 segundos ajustable
cámara de muestras	tubo de vidrio de cuarzo, 165 mm od. x 150 mm id x 150 mm de altura
etapa de muestra	2 "de diámetro Altura ajustable, 30 - 80 mm desde la muestra hasta el objetivo
farfulla	Cabeza pulverizadora de magnetrón de 2 " un obturador operado manualmente para la protección del objetivo
presión de vacío	medidor digital de presión de vacío (pa) conector de bomba de vacío kf25 Presión máxima de vacío 1 pa por la bomba mecánica. la bomba no está incluida
bomba de vacío (opcional)	Se recomienda la bomba de paletas rotativas de doble etapa eq-fyp. opcional: puede usar un bomba turbo para lograr un vacío de 1.0e-5 torr con una bomba turbo (haga clic en la imagen inferior derecha)
gas de entrada	Se instala un accesorio de tubo tipo Swagelok de 1/4 para conectar el cilindro de gas inerte hay una válvula dosificadora en el panel frontal para ajustar el gas de entrada
objetivo	uno de 50 mm de diámetro x objetivo de oro de 0,12 mm incluido Lámina de oro de pureza 4n: 50 mm (2 pulgadas) de diámetro. x 0,12 mm (incluido y preinstalado en el revestidor) objetivos opcionales están disponibles au target (50 mm de diámetro x 0,12 mm, pureza 4n) pt objetivo (50 mm de diámetro x 0,12 mm, pureza 4n) objetivo ag (50 mm de diámetro x 0,5 mm, 4n de pureza) Este modelo es adecuado para el recubrimiento de oro, plata y platino. no es adecuado para recubrir material metálico ligero como al, mg, zn o objetivo de carbono debido a la baja energía. por favor considere nuestro recubrimiento de pulverización catódica de magnetrón dc / rf de alta potencia o el recubrimiento de evaporación térmica.
dimensión y peso del producto	460 mm (l) × 330 mm (w) × 520 mm (h) 20kg
peso de envío & amp; dimensión	80 libras 45 "x 45" x 40 "
conformidad	certificado ce listo para pasar la certificación ul / csa a un costo adicional.
garantía	un año limitado con soporte de por vida
notas de aplicación	para obtener la mejor resistencia de adhesión del sustrato de película, limpie la superficie del sustrato antes de recubrir: limpieza ultrasónica (haga clic en la imagen a continuación para ordenar) con los siguientes baños secuenciales: (1) acetona, (2) alcohol isopropílico, para eliminar el aceite y la grasa. seque el sustrato con n2, luego hornee en vacío para eliminar la humedad absorbida Es posible que se necesite limpieza con plasma (haga clic en la imagen a continuación para ordenar) para la rugosidad de la superficie, la activación de enlaces químicos de la superficie o la eliminación de contaminación adicional Se podría aplicar una capa de tampón delgada (~ 5 nm), como cr, ti, mo, ta, para mejorar la adhesión de metales y aleaciones Se debe instalar un regulador de presión de dos etapas (no incluido) en el cilindro de gas para limitar la presión de salida del gas a menos de 0.02 mpa para un uso seguro. por favor use & gt; 5n pureza ar gas para pulverización de plasma el recubrimiento por pulverización catódica se puede colocar en una guantera de gas ar y n2 para el recubrimiento por favor, aplique múltiples capas para aumentar el espesor de la capa, deje que la máquina se enfríe durante unos minutos entre cada uso, ya que no tiene refrigeración por agua ¡Alto voltaje! Los cabezales de bombardeo se conectan a alto voltaje. por seguridad, el operador debe apagar el equipo antes de cargar la muestra y las operaciones de cambio de objetivo Este modelo no es adecuado para recubrir material metálico ligero como al, mg, zn o objetivo de carbono debido a la baja energía. por favor considere nuestro recubrimiento de pulverización catódica de magnetrón o nuestro recubrimiento de evaporación térmica. (haga clic en las imágenes a continuación para más detalles)

DC Magnetron Sputtering

paquete:

1 paquete estándar exportado: protección anticolisión interna, embalaje de caja de madera de exportación externa.

2 envío por expreso, por aire, por mar de acuerdo con los requisitos de los clientes para encontrar la forma más adecuada.

3 responsable del daño durante el proceso de envío, cambiará la parte dañada por usted de forma gratuita.

el tiempo de entrega : 15-20 días después de confirmar el pedido, la fecha de entrega detallada debe decidirse de acuerdo con

Temporada de producción y cantidad de pedido.

Etiquetas calientes : recubrimiento de pulverización catódica de magnetrón máquina de recubrimiento por pulverización catódica película conductora de oro

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